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上宮莊韓方薰衣草祛印滋養原液的主要成份是：

上宮莊韓方薰衣草祛印滋養原液的成分主要有，純水、丙二醇、1-3丁二醇、透明質(zhì)酸、氨基酸保濕劑、薰衣草精華、修復因子、葵花籽油、植物胎盤(pán)素。

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（實(shí)習編緝：陳志方）